Октябрь 20 2018 08:54:43
Навигация
· Главная
· Конференция
· Статьи
· Файловый архив
· Новости по темам
· Ссылки
· Связатся с нами
· Расширенный поиск
· Вакансии
Статьи по категориям:
Аналитика
Видеокарты
Звук и акустика
Игры
Корпуса и БП
Материнские платы
Моддинг
Мониторы
Носители информации
Ноутбуки и КПК
Оперативная память
Периферия
Софт
Процессоры
Системы охлаждения
Телефоны
Фотоаппараты
mp3 плееры
Акустика


Последние статьи
· Тестирование корпуса...
· Игра Bioshock – шок,...
· Фотоаппарат FUJIFILM...
· Вольтмод и тестирова...
· LeadTek GeForce 8400...
Новые файлы
Video Card Stability... 8229
RaBIT (ATI Radeon BI... 7491
PowerStrip 3.76 6721
nVidia Tray Tools 1.... 6931
nVHardPage SE 3.5 6620
NiBiTor (NVIDIA BIOS... 6768
GPU-Z 0.1.5 6215
aTuner 1.9.81 6320
ATITool 0.27 beta4 6484
ATI Tray Tools 1.3.6... 6448
Полезная информация:

Хакер (изначально — кто-либо, делающий мебель при помощи топора)

Общее голосование
Пользуетесь ли Вы ноутбуком?

Да, без него сейчас никуда

Пользуюсь, но редко

Нету, но собираюсь приобрести

Нету, он мне и не нужен

Популярные загрузки
Video Card Stabil... 8229
A64Tweaker v0.6 7942
CoreTemp 0.94 7866
TweakRAM 5.8 buil... 7634
MemTest 3.5 7601
CPUCooL 7.3.6 7587
MemOptimizer 3.0.1 7545
RaBIT (ATI Radeon... 7491
MemMonster 4.65 7415
RivaTuner 2.0 RC 16 7318
RSS News
Рекомендуем:
Fujitsu разработала 45-нм техпроцесс
Новости HardwareКомпания Fujitsu сообщает о разработке технологии изготовления чипов с топологическими нормами 45-нм, позволяющей получать интегральные микросхемы нового поколения. Одними из главных преимуществ подобных устройств является их высокая производительность и пониженная потребляемая мощность.

Повышения производительности и экономичности устройств удалось добиться благодаря снижению токов утечки по сравнению с микросхемами предыдущего поколения примерно на 20% и снижением времени задержки на 14%. При этом одним из уникальных технологических решений, применённых для изготовления 45-нм чипов, является использование процесса быстрого отжига, длящегося всего несколько миллисекунд. Указанный процесс позволяет формировать неглубокие стоки и истоки транзисторов, при этом предотвращается значительное повышение сопротивления указанных зон транзисторов.

Среди прочих технологических новшеств можно отметить использование нано-кластерного кремния (NCS) с низким значением диэлектрической константы. Подобный материал уже использовался разработчиками Fujitsu при изготовлении 65-нм микросхем, однако теперь NCS применяется не только для внутренних межсоединений, но и для изоляции различных слоёв микросхем.

Компания Fujitsu планирует, что серийное производство 45-нм микросхем начнётся в 2008 году. А использовать представленные устройства планируется в качестве производительных, функциональных и экономичных решений для мобильной электроники.

  • www.ferra.ru
  • Комментарии
    Нет комментариев.
    Добавить комментарий
    Пожалуйста, залогиньтесь для добавления комментария.
    Рейтинги
    Рейтинг доступен только для пользователей.

    Пожалуйста, залогиньтесь или зарегистрируйтесь для голосования.

    Отлично! Отлично! 100% [1 Голос]
    Очень хорошо Очень хорошо 0% [Нет голосов]
    Хорошо Хорошо 0% [Нет голосов]
    Удовлетворительно Удовлетворительно 0% [Нет голосов]
    Плохо Плохо 0% [Нет голосов]
    Авторизация
    Логин

    Пароль



    Забыли пароль?
    Запросите новый здесь.
    Сейчас на сайте
    · Гостей: 7

    · Пользователей: 0

    · Всего пользователей: 933
    · Новый пользователь: Oliverk48
    Рекомендуем

    Время загрузки: 0,06 секунд 8,551,885 уникальных посетителей