April 19 2024 14:50:14
Навигация
· Главная
· Конференция
· Статьи
· Файловый архив
· Новости по темам
· Ссылки
· Связатся с нами
· Расширенный поиск
· Вакансии
Статьи по категориям:
Аналитика
Видеокарты
Звук и акустика
Игры
Корпуса и БП
Материнские платы
Моддинг
Мониторы
Носители информации
Ноутбуки и КПК
Оперативная память
Периферия
Софт
Процессоры
Системы охлаждения
Телефоны
Фотоаппараты
mp3 плееры
Акустика


Последние статьи
· Тестирование корпуса...
· Игра Bioshock – шок,...
· Фотоаппарат FUJIFILM...
· Вольтмод и тестирова...
· LeadTek GeForce 8400...
Новые файлы
Video Card Stability... 10194
RaBIT (ATI Radeon BI... 9242
PowerStrip 3.76 8451
nVidia Tray Tools 1.... 8823
nVHardPage SE 3.5 8552
NiBiTor (NVIDIA BIOS... 8480
GPU-Z 0.1.5 7894
aTuner 1.9.81 7988
ATITool 0.27 beta4 8230
ATI Tray Tools 1.3.6... 8305
Полезная информация:

Архитектура фон Неймана обладает тем недостатком, что она последовательная. Какой бы огромный массив данных ни требовалось обработать, каждый его байт должен будет пройти через центральный процессор, даже если над всеми байтами требуется провести одну и ту же операцию. Этот эффект называется узким горлышком фон Неймана.

Общее голосование
Пользуетесь ли Вы ноутбуком?

Да, без него сейчас никуда

Пользуюсь, но редко

Нету, но собираюсь приобрести

Нету, он мне и не нужен

Популярные загрузки
TweakRAM 5.8 buil... 15501
Video Card Stabil... 10194
CoreTemp 0.94 9620
A64Tweaker v0.6 9580
CPUCooL 7.3.6 9408
MemTest 3.5 9344
RaBIT (ATI Radeon... 9242
MemMonster 4.65 9145
RivaTuner 2.0 RC 16 9116
MemOptimizer 3.0.1 9115
RSS News
Рекомендуем:
Fujitsu разработала 45-нм техпроцесс
Новости HardwareКомпания Fujitsu сообщает о разработке технологии изготовления чипов с топологическими нормами 45-нм, позволяющей получать интегральные микросхемы нового поколения. Одними из главных преимуществ подобных устройств является их высокая производительность и пониженная потребляемая мощность.

Повышения производительности и экономичности устройств удалось добиться благодаря снижению токов утечки по сравнению с микросхемами предыдущего поколения примерно на 20% и снижением времени задержки на 14%. При этом одним из уникальных технологических решений, применённых для изготовления 45-нм чипов, является использование процесса быстрого отжига, длящегося всего несколько миллисекунд. Указанный процесс позволяет формировать неглубокие стоки и истоки транзисторов, при этом предотвращается значительное повышение сопротивления указанных зон транзисторов.

Среди прочих технологических новшеств можно отметить использование нано-кластерного кремния (NCS) с низким значением диэлектрической константы. Подобный материал уже использовался разработчиками Fujitsu при изготовлении 65-нм микросхем, однако теперь NCS применяется не только для внутренних межсоединений, но и для изоляции различных слоёв микросхем.

Компания Fujitsu планирует, что серийное производство 45-нм микросхем начнётся в 2008 году. А использовать представленные устройства планируется в качестве производительных, функциональных и экономичных решений для мобильной электроники.

  • www.ferra.ru
  • Комментарии
    Нет комментариев.
    Добавить комментарий
    Пожалуйста, залогиньтесь для добавления комментария.
    Рейтинги
    Рейтинг доступен только для пользователей.

    Пожалуйста, залогиньтесь или зарегистрируйтесь для голосования.

    Отлично! Отлично! 100% [1 Голос]
    Очень хорошо Очень хорошо 0% [Нет голосов]
    Хорошо Хорошо 0% [Нет голосов]
    Удовлетворительно Удовлетворительно 0% [Нет голосов]
    Плохо Плохо 0% [Нет голосов]
    Авторизация
    Логин

    Пароль



    Забыли пароль?
    Запросите новый здесь.
    Сейчас на сайте
    · Гостей: 4

    · Пользователей: 0

    · Всего пользователей: 933
    · Новый пользователь: Oliverk48
    Рекомендуем

    Время загрузки: 0.03 секунд 10,726,997 уникальных посетителей